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芯源微:前道领域产品已经开始放量在新签订单中占比大幅提升

时间:2022-10-16 12:21:05 来源:证券之星   阅读量:15816   

公司在手订单饱满,报告期末合同负债达6.28亿元报告期内,公司核心产品offline,I—line,KrF机等批量销售同时,公司于今年上半年完成2021年a股定向增发,引入易方达基金等多家知名投资机构资本扩张将加速公司的规模发展鑫源微董事长兼总裁宗润福在9月5日举行的2022年半年度业绩说明会上表示

芯源微:前道领域产品已经开始放量在新签订单中占比大幅提升

信威最近几天披露的2022年半年报显示,2022年上半年,公司经营业绩继续保持高速增长,实现营业收入5.04亿元,同比增长44%,净利润6940万元,同比增长98%,扣非后净利润6578万元,同比增长122%。

魏源主要从事半导体专用设备的研发,生产和销售,拥有省级企业技术中心和省级工程实验室公司主要产品包括光刻工艺中的涂胶显影设备和单片湿法设备,可用于8/12英寸的单片加工和6英寸以下的单片加工

据宗润福预计,2022年,虽然消费电子的存量市场已经进入去库存阶段,但高端物联网,电动汽车,绿色能源,工业等增量市场还没有建立起足够的存量应用端硅含量的持续增加与晶圆厂有限的产能扩张相矛盾,叠加产业链转移导致的本地化产能缺口以SMIC为代表的本土晶圆厂加速扩产,增加资本支出,为国内半导体设备行业带来了难得的发展机遇和满订单需求

今年上半年,受上海等地疫情影响,芯源客户端安装验收的机器受到一定影响虽然上海地区客户的部分机器验收进度略落后,但公司客户覆盖区域广泛,包括北京,上海,广东,江苏,浙江,陕西,山东等地区截至目前,目前疫情对公司整体机器验收进度影响不大

下半年,公司继续加大客户现场人员配备和沟通协调力度宗润福表示,从2022年上半年的签约订单情况来看,公司在前领域的产品已经开始放量,前产品在今年新签订单结构中的比重大大增加

宗福表示,鑫源微产在28nm及以上生产的前端涂布显影设备的多项关键技术,如光刻胶膜均匀涂布技术,内部微环境精确控制技术,光刻胶涂布缺陷及成本控制技术,在线工艺缺陷检测技术,大容量设备架构,机器人优化调度技术等,均达到国际先进水平同时,公司在前胶显影机的大容量架构上也取得了相应的进展大容量架构平台是具有完全自主知识产权的创新平台通过两侧工艺单元的对称布置和两侧机械手同时取片,可以满足光刻机不断增长的产能需求

大容量架构平台将作为公司未来一线涂胶显影设备的通用基础平台,涵盖沉浸式,向后兼容等前沿光刻技术,应用场景广泛宗福表示,公司原有的涂布显影设备已陆续接到SMIC首创,上海华力,长江仓储,合富长信等多家原有大客户的订单综合来看,公司前胶显影机在各项核心技术上不断取得突破,同时在客户资源,产品性价比,服务保障等方面具有一定的竞争优势

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